《现代离子镀膜技术》一书出版发行  

作　　者：无 

机构地区：[1]沈阳真空杂志社

出　　处：《真空》2023年第4期84-84,共1页Vacuum

摘　　要：由王福贞教授和武俊伟教授主编,众多知名企业家和科学家共同编写的《现代离子镀膜技术》一书2021年由机械工业出版社出版,被国际知名的ELSEVIER出版社录用,现在《Modern Ion Plating Technology》已经在全球公开销售了。这本书是中国薄膜科技工作者向国外朋友介绍离子镀膜技术的书籍。书中介绍了“现代离子镀膜技术”在能源、宇航、光电子等高新技术领域及人民生活诸方面的重要作用,这些技术将在数字化、智能化和信息化等先进应用领域的发展中发挥独特作用。书中深入浅出地介绍了各种“现代离子镀膜技术”的原理、发展历程和国内外薄膜科技工作者利用等离子体物理知识研发各种离子镀膜新技术的设计理念。介绍了自1976年以来,中国科技工作者对离子镀膜技术的贡献。

关 键 词：离子镀膜 科技工作者 机械工业出版社 等离子体物理 出版发行 应用领域 光电子 数字化 

分 类 号：TB43-5[一般工业技术]