浅析LCD(A-Si)制造工艺中节距偏差、套准精度影响因素  

作　　者：孙理想 谢玲玲 崔嵬 潘庆龙 汪正武 徐亮 郑辉 冯力 郭璐易 吴雪梅 

机构地区：[1]彩虹(合肥)液晶玻璃有限公司,合肥230011

出　　处：《建筑玻璃与工业玻璃》2023年第8期23-27,31,共6页Architectural Glass and Functional Glass

摘　　要：本论文从玻璃基板热性能及曝光补偿工艺、CVD型号及腔体、Gate材质等方面来探究阵列制程中TP及OL影响因素,通过验证及数据对比方式,呈现以上因素对TP及OL影响程度,并为LCD-阵列制程中TP及OL问题对策提供一定参考及改善方向。

关 键 词：LCD 曝光补偿 玻璃基板 套准精度 问题对策 数据对比 制造工艺 改善方向 

分 类 号：TN3[电子电信—物理电子学]