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作 者:代师宇 温海波 刘瑜 董见锋 马俊[1] 赵杭军 Dai Shiyu;Wen Haibo;Liu Yu;Dong Jianfeng;Ma Jun;Zhao Hangjun(University of Science and Technology Liaoning,Liaoning,114051)
机构地区:[1]辽宁科技大学,辽宁114051
出 处:《当代化工研究》2023年第23期17-19,共3页Modern Chemical Research
基 金:辽宁省教育厅2023年度普通高校认定类科研项目“铁基合金细晶强化与固溶强化复合处理的研究”(项目编号:S202310146033)。
摘 要:等离子体辅助氮化技术因具有氮化速率较快、渗层氮含量高、工艺绿色环保等优点成为研究的焦点。本文综述了活性屏等离子体辅助氮化、低压电弧等离子体辅助氮化和热丝增强等离子辅助氮化的新型等离子氮化技术。同时,发现通过添加稀土元素、增加预处理、后氧化等复合氮化处理可以进一步增强氮化效果。Plasma assisted nitriding technology has become a research focus because of its advantages such as fast nitriding rate,high nitrogen content in the nitrided layer,and environmentally friendly process.This article reviews new plasma nitriding technologies such as active screen plasma assisted nitriding,low-pressure arc plasma assisted nitriding,and hot wire enhanced plasma assisted nitriding.Meanwhile,it is found that combined nitriding treatments such as adding rare earth elements,increasing pre-treatment and post-oxidizing can further enhance the nitriding effect.
分 类 号:TG174.44[金属学及工艺—金属表面处理]
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