第二十二讲化学气相沉积(CVD)技术  

No.22:Chemical Vapor Deposition Technology

作　　者：张以忱[1] ZHANG Yi-chen

机构地区：[1]东北大学,辽宁沈阳110004

出　　处：《真空》2024年第1期87-88,共2页Vacuum

摘　　要：(接2023年第6期88页)微波等离子体CVD法是制备优质金刚石薄膜的好方法。在微波CVD装置中,极高频率的微波电场将使气体放电产生等离子体。等离子体中电子的快速往复运动进一步撞击气体分子,使得气体分子分解为H*和各种活性基团。这些大量的原子氢和活性的含碳基团是用低温低压的CVD方法沉积金刚石所必需的。

关 键 词：气体放电 金刚石薄膜 分子分解 往复运动 原子氢 活性基团 气体分子 等离子体 

分 类 号：O484[理学—固体物理] TB43[理学—物理]