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作 者:胡艺缤 刘运桃 束世葛 胡标[2] 李浩[2] 李天明[2] 汪海洋[2] 周翼鸿[2] HU Yibin;LIU Yuntao;SHU Shige;HU Biao;LI Hao;LI Tianming;WANG Haiyang;ZHOU Yihong(The Ninth Research Institute of China Electronics Technology Group Corporation,Mianyang,Sichuan Province 621006,China;School of Electronic Science andEngineering,University of Electronic Science and Technology of China,Chengdu 610054,China)
机构地区:[1]中国电子科技集团公司第九研究所,四川绵阳621006 [2]电子科技大学、电子科学与工程学院,成都610054
出 处:《现代应用物理》2023年第4期126-130,共5页Modern Applied Physics
基 金:国家自然科学基金资助项目(62171083)。
摘 要:针对多路高功率微波合成技术中,合成器采用扩大尺寸的方式容易产生高次模式的问题,在数值模拟的基础上,设计了一种用于高功率微波合成的双色板,可对X波段下两路相同极化方向的高功率微波进行高效合成。当电磁波入射角度为45°时,该双色板对9.3 GHz±50 MHz高功率微波的反射效率大于99%,对9.7 GHz±50 MHz高功率微波的透射效率大于99%,且抑制了高次模式的产生,实现了8 GW的功率容量及紧凑化设计的要求。In this paper,a dichroic plate structure is designed for high power microwave(HPM)synthesis,which can efficiently synthesize high power microwaves with the same polarization direction in dual pass-band for X-band.A simulation is conducted on the dichroic plate unit and array.The simulation results show that when the incident angle of the electromagnetic wave is 36~52°,the reflection efficiency of the dichroic plate for HPMs with a frequency of 9.3 GHz±50 MHz is greater than 99%,and a transmission efficiency of the dichroic plate for HPMs with a frequency of 9.7 GHz±50 MHz is greater than 98%.This dichroic plate suppresses the generation of high-order modes and can withstand microwave irradiation with a power of 8 GW with a compact structure.
关 键 词:高功率微波 双色板 反射效率 透射效率 功率容量
分 类 号:TN814[电子电信—信息与通信工程]
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