多片平板硅外延机台均匀性提升研究  

作　　者：吴庆东 

机构地区：[1]上海新傲科技股份有限公司,上海201815

出　　处：《机电信息》2024年第13期68-72,共5页

摘　　要：论述了多片平板硅外延机台影响外延层均匀性的因素,通过试验验证影响因素,得出了控制这些因素的方法及条件。

关 键 词：多片平板外延机台 炉内均匀性 旋转控制系统 

分 类 号：TN305[电子电信—物理电子学]