铈基抛光材料的化学机械抛光应用  

作　　者：梅燕[1] 

机构地区：[1]北京工业大学

出　　处：《科技纵览》2024年第4期68-70,共3页IEEE Spectrum

基　　金：国家重点研发计划课题(课题编号:2021YFB3501102)的支持。

摘　　要：传统主流的抛光方式主要包括机械抛光、化学抛光、超声波抛光、流体抛光、磁研磨抛光、电化学抛光这几种,明显的缺陷特点在于都只能达到微米级或亚微米级表面粗糙度,精度不够且难以再提升.

关 键 词：电化学抛光 机械抛光 表面粗糙度 抛光材料 流体抛光 研磨抛光 亚微米级 超声波抛光 

分 类 号：TG1[金属学及工艺—金属学]