单面旋转式抛光机运行机理及在半导体材料抛光中的应用研究  

作　　者：陶永军[1] 

机构地区：[1]中国电子科技集团公司第四十五研究所,北京100176

出　　处：《中国机械》2024年第17期81-85,共5页Machine China

摘　　要：目前关于单面旋转式抛光机在半导体材料抛光中的应用研究仍存在一定不足。例如,在抛光过程中如何有效控制化学腐蚀和机械磨削的平衡,以防止表面损伤等问题,仍需深入研究。因此,本文对单面旋转式抛光机运行机理及其在半导体材料抛光中的应用进行研究。首先,通过对单面旋转式抛光机运行机理的分析,发现执行正确的操作和参数设定对于实现高质量的抛光效果至关重要。其次,单面旋转式抛光机在半导体材料抛光中的应用以单面旋转式抛光机的结构设计、半导体材料抛光工艺的参数设定两步骤进行设定,以确保抛光机能够满足半导体材料抛光的高精度和高质量要求。最后,通过试验验证上述设定。试验结果表明:单面旋转式抛光机相比传统抛光机在半导体材料抛光过程中表现出良好的稳定性和可靠性,单面旋转式抛光机能够长时间稳定运行,且与试验设定的抛光效果的一致性较好。

关 键 词：抛光技术 单面旋转式抛光机 抛光机运行机理 半导体材料抛光 

分 类 号：TN305[电子电信—物理电子学]