局部二维硅酸盐网络的电阻距离和基尔霍夫指数  

The resistance distance and kirchhoff index of the localized two-dimensional silicate network

作　　者：孙旻昊 邢抱花 SUN Minhao;XING Baohua

机构地区：[1]安庆师范大学数理学院,安徽安庆246133

出　　处：《池州学院学报》2024年第3期10-15,共6页Journal of Chizhou University

基　　金：安徽高校自然科学研究重点项目(KJ2021A0650);安徽省研究生线下示范课程(2022xxsfkc038)。

摘　　要：图N中u、v两点之间的电阻距离R_(N)(u,v)是指将N中的每条边用单位电阻代替后,点u和v在对应电网络中的有效电阻。本文利用电网络中的串并联原理、消去原理、Y-Δ变换和电阻距离局部规则给出了局部二维硅酸盐网络任意顶点对的电阻距离及其基尔霍夫指数。

关 键 词：硅酸盐网络 电网络 电阻距离 基尔霍夫指数 

分 类 号：O157.5[理学—数学]