原材料比表面积和松装密度对ITO靶材密度的影响  

作　　者：曾墩风 王志强 张兵 陈光园 

机构地区：[1]芜湖映日科技股份有限公司

出　　处：《中国金属通报》2024年第15期182-185,共4页China Metal Bulletin

摘　　要：本文利用砂磨、造粒、模压成型、高温烧结一系列方法制备出In_(2)O_(3):SnO2=90:10的ITO粉体与高密度的ITO靶材,研究了In_(2)O_(3)和SnO2比表面积和ITO粉末松装密度对ITO靶材密度的影响。In_(2)O_(3)粉末比表面积采用7g/m^(2)、9g/m^(2)、10g/m^(2)、12g/m^(2),SnO2比表面积采用6g/m^(2)、8g/m^(2)、10g/m^(2)、14g/m^(2),砂磨介质氧化锆磨球采用0.3mm、0.5mm、0.8mm,进行多批次砂磨实验,采用统一烧结曲线。结果表明:当In_(2)O_(3)比表面积在12g/m^(2)左右时,SnO2比表面积在10g/m^(2)左右时,采用0.8mm氧化锆磨球砂磨,松装在1.5g/cm^(3)~1.55g/cm^(3)之间,粉末成型烧结时ITO靶材密度最高。

关 键 词：氧化铟 比表面积 松装密度 ITO 

分 类 号：TB3[一般工业技术—材料科学与工程]