提高CeO_(2)抛光粉性能的热处理工艺研究  

Research on Heat Treatment Process for Improving the Performance of CeO_(2) Polishing Powder

作　　者：卢宏炎[1] 张明轩 周朋洋 杜雨洁 LU Hong-yan;ZHANG Ming-xuan;ZHOU Peng-yang

机构地区：[1]河南工业职业技术学院,河南南阳473009

出　　处：《精密制造与自动化》2024年第2期12-16,共5页Precise Manufacturing & Automation

基　　金：河南省科技厅资助项目编号:(172102210233)。

摘　　要：为提高氧化铈抛光粉的抛光性能,现有的技术大多是针对抛光液的后期使用和配制。对制造抛光粉的热处理工艺进行研究,从根本上改善抛光粉的抛光性能,有重大的学术价值和经济价值。经过分析热处理影响因素,合理选定各因素的因子水平,进行正交试验,然后将试验产品进行抛光性能测试,得出最佳的热处理工艺方案为:将待处理抛光粉升温至1100℃左右,保温1 h,用5℃凉水搅拌冷却。按优化的工艺条件处理CeO_(2)抛光粉,与处理之前的抛光粉进行抛光性能对比测试,相对抛光效率增长了52.9%。

关 键 词：稀土氧化物 抛光粉 热处理工艺 正交试验 

分 类 号：TG580.692[金属学及工艺—金属切削加工及机床] TB306[一般工业技术—材料科学与工程]