某半导体光电和功率器件IDM项目总图设计  

作　　者：杨星 

机构地区：[1]中国电子系统工程第二建设有限公司,江苏无锡214000

出　　处：《新潮电子》2024年第11期1-3,共3页

摘　　要：主要论述行业环境快速变迁的背景下,新工业厂区总图设计的核心内容、规划流程及其动态性设计理念与方法。文章提炼性地介绍了进行总图设计时应遵循的关键要点,旨在通过科学合理地总体规划设计和过程协调管理,有效地推动工业厂区建设项目实现高效有序的建设和运营。以便于优化资源配置,确保项目既满足当前生产需求,又能具备未来发展的灵活性与扩展性。

关 键 词：工业建筑 总平面布置 竖向设计 交通流线 

分 类 号：F42[经济管理—产业经济]