α-Ti_3O_5薄膜的制备及氧敏性能的研究  

Preparation and Oxygen Sensing Properties of α-Ti_3O_5 Thin Films

作　　者：郑嘹赢[1] 李国荣[1] 殷庆瑞[1] 徐廷献[2] 

机构地区：[1]中国科学院上海硅酸盐研究所,上海200050 [2]天津大学材料学院,天津300072

出　　处：《无机材料学报》2002年第6期1253-1257,共5页Journal of Inorganic Materials

基　　金：国家基金委重大项目(59995520-6)

摘　　要：α-Ti3O5是TiOx材料中相对较稳定的晶型,是一种潜在的氧敏材料.与传统的TiO2、ZrO2材料相比,具有阻温特性好的优点.本文通过H2还原TiO2来制备α-Ti3O5薄膜,研究了不同还原温度和保温时间对薄膜晶相组成的影响以及薄膜的导电性、电阻-温度稳定性和在氧化气氛中的晶格稳定性.同时对α-Ti3O5薄膜的氧敏性能进行了初步研究.The preparation and oxygen-sensing properties of α-Ti3O5 films were studied. The results of testing show that the Ti3O5 film with orthorhombic structure (α phase) can be obtained by reduction TiO2 thin films in H2 atmosphere. The α-Ti3O5 film is stable up to 650℃ in air. It has low resistance-temperature coefficient and certain oxygen-sensing properties, but its oxygen-sensing properties need further improvement.

关 键 词：α-Ti3O5薄膜 制备 氧敏性能 五氧化三钛 氧敏材料 

分 类 号：O484[理学—固体物理] TB383[理学—物理]