Fe-N薄膜的时效研究  

Ageing Effect Investigation of Fe-N Films

作　　者：赵慈[1] 许英华[1] 吴萍[1] 姜恩永[1] 

机构地区：[1]天津大学理学院应用物理学系,天津300072

出　　处：《金属功能材料》2002年第6期24-25,共2页Metallic Functional Materials

基　　金：国家自然科学基金资助项目 (5 0 0 72 0 15 )

摘　　要：本文利用对向靶反应溅射法制备Fe N膜 ,本底真空度为 6× 10 -4 Pa,溅射功率为 16 0W ,基底温度约为180℃ ,再经 180℃退火处理。所得样品的结构由X射线衍射分析 (XRD)得到 ,并对Fe N膜时效性进行了跟踪实验。结果表明 ,制备的Fe N膜在室温条件下放置半年以上 ,其膜的结构及各相含量基本未变。Fe-N films were prepared by facing target active sputtering (FTS) method.The base pressure(～6×10 -4Pa),substrate and annealing temperature(～180℃)were adopted.The films' structure and ageing effect are investigated by X-ray diffraction.The results indicate that the structure and phase volume fractions in the films remained basically unchanged.

关 键 词：铁氮薄膜 时效研究 相分析 

分 类 号：TB43[一般工业技术]