干涉图去包裹位相的二次校正  

Double Revising after Phase Unwrapping of Interference Patterns

作　　者：于瀛洁[1] 陈明仪[1] 韦春龙[1] 

机构地区：[1]上海大学(延长校区)精密机械工程系,上海200072

出　　处：《仪器仪表学报》2002年第5期537-539,543,共4页Chinese Journal of Scientific Instrument

基　　金：上海市教育委员会青年基金资助项目。

摘　　要：相位去包裹是移相干涉技术中关键的组成部分。一些去包裹算法在处理具有较多无效成像点的干涉图时,会在处理结果中引入较大的算法误差。提出了通过对去包裹位相进行二次校正的方法,实现去包裹位相算法误差的有效消除。文中通过基于DCT变换的最小二乘去包裹算法为例进行了说明,并通过一光学平晶表面的处理结果对方法进行了验证。Phase unwrapping is a key segment in phase-stepping technique. A big error will occur when using some phase unwrapping algorithms to process the interference patterns with many invalid imaging points. The paper presents a double revising method to process unwrapping phase to remove its algorithm error. The paper uses the least-squares algorithm by the discrete cosine transform (DCT) as an example to explain this method. The test results of an optical flat testify its correctness.

关 键 词：移相干涉技术 去包裹算法 二次校正 

分 类 号：TH744.3[机械工程—光学工程]