碳化硅机械密封在去离子水系统中的腐蚀机理分析与防护  

Corrsion mechanism analysis and protection of silicon carbide mechanical seals in deionized water system

作　　者：张波 汪正炜 江峰 郝清亮 尹传涛 Zhang Bo;Wang Zhengwei;Jiang Feng;Hao Qingliang;Yin Chuantao(Wuhan Institute of Marine Electric Propulsion,Wuhan 430064,China)

机构地区：[1]武汉船用电力推进装置研究所,武汉430064

出　　处：《船电技术》2025年第2期1-4,共4页Marine Electric & Electronic Engineering

摘　　要：本文结合碳化硅机械密封在去离子水系统中的腐蚀案例,针对碳化硅机械密封在去离子水系统中的腐蚀机理进行了分析和论证,提出了碳化硅机械密封在去离子水系统中腐蚀问题的解决方法。进一步扩展到其他类似场合,提出了碳化硅机械密封在不导电介质中的防护措施。Based on corrosion cases,this article analyzes and demonstrates the corrosion mechanism of silicon carbide mechanical seals in deionised water system.A solution to the corrosion problem of silicon carbide mechanical seals in deionized water system is proposed.Extending to other similar situations,this paper provides protective measures for silicon carbide mechanical seals in non-conductive media.

关 键 词：机械密封 去离子水 腐蚀 

分 类 号：TB42[一般工业技术]