高世代面板生产线化学气相沉积设备气体扩散器温场均匀性和稳定性研究  

作　　者：司奇峰 刘其贵 何新玉 熊宏祥 

机构地区：[1]芜湖通潮精密机械股份有限公司,安徽芜湖241000

出　　处：《中国石油和化工标准与质量》2024年第24期82-84,共3页China Petroleum and Chemical Standard and Quality

基　　金：芜湖市重大科技项目:高世代液晶面板生产线化学气相沉积(CVD)设备核心部件国产化研发及应用(编号:2022zd07)阶段研究成果。

摘　　要：气体扩散器是高世代化学气相沉积(CVD)设备沉积腔中的核心组件,能实现沉积腔大面积全范围的温度均匀性和稳定性控制,并实现上下电极距离的灵活调节和精确控制,对保证CVD沉积薄膜质量起到关键作用。本文从气体扩散器工作原理出发,探索出温度均匀性和稳定性规则,并与气体扩散器新品制备工艺相结合,优化气体扩散器微观结构,有效建立高精密稳速升降多区域温度均匀性气体扩散器加工模型,解决高世代化学气相沉积设备沉积温度均匀性和稳定性控制技术难题,实现高世代化学气相沉积大面积镀膜质量的有效提升。

关 键 词：气体扩散器 温度均匀性 稳定性 

分 类 号：TP273[自动化与计算机技术—检测技术与自动化装置] TG174[自动化与计算机技术—控制科学与工程]