检索规则说明:AND代表“并且”;OR代表“或者”;NOT代表“不包含”;(注意必须大写,运算符两边需空一格)
检 索 范 例 :范例一: (K=图书馆学 OR K=情报学) AND A=范并思 范例二:J=计算机应用与软件 AND (U=C++ OR U=Basic) NOT M=Visual
作 者:吴艳 孟媚 朱鸿宇 Wu Yan;Meng Mei;Zhu Hongyu
机构地区:[1]江南大学
出 处:《服装设计师》2025年第3期107-114,共8页Fashion China
基 金:中国独立服装设计师品牌校企共创孵化机制研究(2023SJYB0901)。
摘 要:中国独立设计师品牌是我国文化创意产业的重要组成部分,其空间分布及演化特征研究对我国加快发展新型文化企业、文化业态、文化消费模式具有重要意义。文章利用ArcGIS地理信息系统,通过核密度分析、标准差椭圆、最临近指数、地理探测器等多种方法,综合分析中国独立设计师品牌空间分布及其影响机理。结果表明,我国独立设计师品牌产业总体呈现出稳定的中心城市分布格局。品牌企业空间集聚始终存在,近年来中心辐射效应趋于增强,呈现多点爆发,多区域协同发展态势,空间扩散特征明显,局部聚集程度与城市中心圈层耦合良好。在影响机理方面,客源市场是内在驱动力,经济水平是外在驱动力,技术创新是其关键诱导因素,行业总体态势趋向于稳定。
关 键 词:中国独立设计师品牌 空间分布 影响机理 核密度分析 态势分析
分 类 号:TS941.1[轻工技术与工程—服装设计与工程]
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