弹性应力薄膜的表面演化  

作　　者：Irene Fonseca Giovanni Leoni 杨思奇(译) 郝成春(校) 

机构地区：[1]美国数学会 [2]美国工业与应用数学学会 [3]卡内基梅隆大学 [4]不详

出　　处：《数学译林》2024年第4期289-301,共13页MATHEMATICS

摘　　要：本文概述外延生长研究中的最新分析进展.建立了准静态平衡,讨论了其解的正则性,并通过极小化运动处理了外延应变弹性薄膜的演化.本文简要概述晶体薄膜沉积到基片(substrate)上研究中的一些最新分析进展,其中薄膜的原子占据了基片的自然晶格位置.这一过程称为外延生长.我们关注的是异质外延,即薄膜与基片具有不同晶体结构的外延.在沉积开始时,由于与化学键作用相关的能量增益大于晶格参数失配引起的薄膜应变,薄膜原子倾向于与基片原子对齐.

关 键 词：弹性应力 解的正则性 薄膜沉积 晶体结构 外延生长 弹性薄膜 异质外延 静态平衡 

分 类 号：O48[理学—固体物理]