掩模基板用石英衬底清洗效果影响因素探讨  

作　　者：徐根 杨旭 李翼 李伟 

机构地区：[1]湖南普照信息材料有限公司,湖南长沙410083

出　　处：《清洗世界》2025年第3期63-65,共3页Cleaning World

摘　　要：本文用康宁7980型石英Q6025光掩模用抛光衬底玻璃,在不同的工艺下进行溅镀钼硅膜前的清洗,阐述清洗工艺与衬底表面洁净度的关系及机理,实现衬底颗粒缺陷降低,同时优化钼硅膜的膜应力。

关 键 词：掩模基板 清洗工艺 颗粒缺陷 膜应力 

分 类 号：TP273.5[自动化与计算机技术—检测技术与自动化装置]