基于NaCl溶液的电解抛光工艺参数研究  

作　　者：龚伟明 朱威 

机构地区：[1]中国地震局地震研究所,湖北武汉430061 [2]武汉引力与固体潮国家野外科学观测研究站,湖北武汉430061

出　　处：《中国新技术新产品》2025年第6期53-55,共3页New Technology & New Products of China

摘　　要：针对地震仪器中存在的一些形状特殊的铜质零部件,本文提出以NaCl溶液作为电解液,通过正交试验的方式确定铜片电解抛光工艺的最佳温度、电解液流速和电解液浓度,并研究了通电时间对抛光效果的影响。结果表明,随着通电时间增加,铜片表面粗糙度先减小后增大。当温度为60℃、电解液浓度为50%、电解液流速为800mL/min、电流密度为50A/dm^(2)、通电100s时,铜片表面粗糙度最低,为0.175μm。

关 键 词：NACL溶液 铜片 电解抛光 表面粗糙度 

分 类 号：TG175[金属学及工艺—金属表面处理]