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作 者:张若青 宋昌辉 王海涛 项坤 邹菁 ZHANG Ruoqing;SONG Changhui;WANG Haitao;XIANG Kun;ZOU Jing(Hubei Engineering Research Center for New Catalytic Materials,School of Chemistry and Environmental Engineering,Wuhan Institute of Technology,Wuhan 430074,China)
机构地区:[1]武汉工程大学化学与环境工程学院新型催化材料湖北省工程研究中心,湖北武汉430074
出 处:《化学与生物工程》2025年第4期8-11,31,共5页Chemistry & Bioengineering
基 金:2023年工信部高质量发展专项(TC230A076-18);国家自然科学基金项目(21902108)。
摘 要:使用黑色像素定义层材料、在AMOLED薄膜封装上覆盖彩色滤光片的去偏光片技术(COE)具有高透过率、轻薄化、低成本的工艺特点,是当前最先进的折叠屏AMOLED技术方案。合成了2种侧链型聚酰亚胺碱溶性树脂HEA-PSMA和GMA-PSMA,分别制作成黑色像素定义层光刻胶,并研究了其光刻图案化能力和热稳定性。结果表明,HEA-PSMA基、GMA-PSMA基黑色光刻胶均具备较好的光刻图案化能力,其中GMA-PSMA基黑色光刻胶能够获得分辨率为10μm的图案;TGA曲线表明,HEA-PSMA基、GMA-PSMA基黑色光刻胶均具有较好的热稳定性,在质量损失1%的分解温度分别达到了289.3℃和293.0℃。The depolarization technology(colorfilter on encapsulation,COE),using black pixel define layer material and AMOLED film packaging covered color filters has the characteristics of high transmittance,lightweight,and low cost,and is currently the most advanced folding screen AMOLED technology solution.In this paper,we synthesized two types of side-chain polyimide alkali-soluble resins HEA-PSMA and GMA-PSMA,and fabricated separately black pixel define layer photo resists.Moreover,we studied the photolithography patterning capability and thermal stability of the black photo resists.The results show that HEA-PSMA-based and GMA-PSMA-based black photo resists have good photolithography patterning capabilities,in which GMA-PSMA-based photo resists are able to obtain patterns with a resolution of 10μm.TGA curves show that HEA-PSMA-based and GMA-PSMA-based black photo resists have good thermal stabilities with decomposition temperatures of 289.3℃and 293.0℃,respectively,at a mass loss of 1%.
关 键 词:侧链型聚酰亚胺 像素定义层(PDL) 黑色光刻胶 AMOLED 柔性显示技术
分 类 号:TQ323.7[化学工程—合成树脂塑料工业]
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