ICP-AES法测定氧化铝中二氧化硅含量的实践意义  

作　　者：韦钟泽 

机构地区：[1]平果铝业有限公司分析检测中心,广西平果531400

出　　处：《冶金与材料》2025年第3期49-51,共3页Metallurgy and Materials

摘　　要：文章旨在建立一种准确、高效测定二氧化硅含量的方法。在材料分析领域,准确测定二氧化硅含量对于诸多工业生产与科研工作至关重要,现有方法存在精度或效率不足等问题。为此,研究依据YS/T630-2016标准,采用电感耦合等离子体发射光谱法开展测定工作。首先利用该光谱法精准测定硅元素的含量,随后乘以硅的氧化物系数,从而间接得到二氧化硅的含量。通过实验验证,该方法展现出良好的准确性与重现性,能够有效满足实际生产和科研中对二氧化硅含量测定的需求,为相关领域的质量控制与研究提供了可靠的技术支持,在提升分析效率与结果可靠性方面具有重要意义。

关 键 词：二氧化硅 氧化铝 电感耦合等离子体发射光谱法 

分 类 号：O657.3[理学—分析化学]