透视静电吸盘市场,谁主沉浮?  

出　　处：《中国粉体工业》2025年第2期49-51,共3页China Powder Industry

摘　　要：在半导体与光学领域中,部分工艺需要使用静电卡盘(ESC)固定衬底来完成,静电卡盘通常处于下腔室位置。同时静电卡盘也可以实现快速加热以及加载射频功率调节等离子体状态的作用。此外,静电卡盘在工艺过程中还具有高稳定性、低颗粒性、控温良好等性能。因此,静电卡盘在半导体、光学领域中受到越来越广泛的应用。随着全球半导体行业的蓬勃发展,这一关键零部件的市场格局与技术竞争日益激烈。

关 键 词：射频功率 下腔室 光学领域 快速加热 高稳定性 

分 类 号：TN305[电子电信—物理电子学]