LS—Ⅲ型自调宽温度低浓度镀铬新工艺研究  

作　　者：苏庆德[1] 王保定 罗思泉 徐志文 何世友 凌山峰 曲锦忠 

机构地区：[1]中国科技大学,合肥科华精细化工研究所230051

出　　处：《电镀与精饰》1992年第3期4-7,共4页Plating & Finishing

摘　　要：1 LS—Ⅲ型镀铬工艺 1.1配方及工作条件铬酐(CrO_3) 140～180g/L 三价铬(Cr^(3+)) <6g/L 硫酸(H_2SO_4) 0.6～1.1g/L LS—Ⅲ添加剂 4～8g/L 温度(℃) 16～50 阴极电流密度(A/dm^2)

关 键 词：电镀 镀铬 工艺 LS-Ⅲ型 镀液 

分 类 号：TQ153.11[化学工程—电化学工业]