X射线显微术及其进展  

X-ray Microscopy and Its Headway

作　　者：杨茜玲[1] 唐立军[2] 肖体乔[2] 

机构地区：[1]湖南铁道职业技术学院,湖南株洲412000 [2]中科院上海原子核研究所,上海200000

出　　处：《湖南工程学院学报（自然科学版）》2002年第4期44-48,共5页Journal of Hunan Institute of Engineering(Natural Science Edition)

摘　　要：综述了X射线显微成像机理 ,成像光学元件 ,记录介质 ,辐射损伤及三维信息的获取等 ,并预见X射线显微术的发展趋势 .This paper summarizes the theory of the X-ray microscopic image,the optical elements,the recording media, the radiative damage of the X-ray microscopy and the obstainment of the three-dimensional message.The writer also foresees the developing trend of the X-ray microscopy.

关 键 词：X射线显微术 发展趋势 成像机理 成像元件 辐射损伤 记录介质 

分 类 号：TH742.63[机械工程—光学工程]