具有旋转圆柱的Hull槽(RCH—Cell)  

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作  者:范宏义 

出  处:《材料保护》2003年第1期65-65,共1页Materials Protection

摘  要:Hull槽研究一直是电镀工艺控制和开发最常用的试验之一,但是,传统的Hull槽并不能模拟搅拌的影响,利用具有旋转圆柱阴极的Hull槽可以克服这一缺点,而且不需要隔离室,可以直接浸入工作电解液中。

关 键 词:旋转圆柱 HULL槽 (RCH-Cell 电镀 工艺控制 

分 类 号:TQ153[化学工程—电化学工业]

 

参考文献:

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