检索规则说明:AND代表“并且”;OR代表“或者”;NOT代表“不包含”;(注意必须大写,运算符两边需空一格)
检 索 范 例 :范例一: (K=图书馆学 OR K=情报学) AND A=范并思 范例二:J=计算机应用与软件 AND (U=C++ OR U=Basic) NOT M=Visual
作 者:范宏义
出 处:《材料保护》2003年第1期65-65,共1页Materials Protection
摘 要:Hull槽研究一直是电镀工艺控制和开发最常用的试验之一,但是,传统的Hull槽并不能模拟搅拌的影响,利用具有旋转圆柱阴极的Hull槽可以克服这一缺点,而且不需要隔离室,可以直接浸入工作电解液中。
关 键 词:旋转圆柱 HULL槽 (RCH-Cell 电镀 工艺控制
分 类 号:TQ153[化学工程—电化学工业]
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