Nafion干燥器的去溶机理和日常维护  

Desolvation mechanism and routine maintenance of Nafion dryer.

作　　者：汪淑华[1] 郇延富[1] 冯国栋[1] 曹彦波[1] 金钦汉[1] 

机构地区：[1]吉林大学化学院分析科学研究所,长春130023

出　　处：《分析仪器》2003年第1期23-26,共4页Analytical Instrumentation

基　　金：吉林省科技发展计划重点项目 (合同号 :2 0 0 10 3 0 6-1)

摘　　要：介绍了用于原子光谱分析的Nafion干燥器的去溶机理、使用条件及日常维护与清洗。与其他常用去溶系统或干燥器相比较 ,Nafion去溶系统具有更高的去溶效率、更好的选择性、更强的抗腐蚀能力 ,日常维护和清洗简单。该系统不存在记忆效应和峰展宽问题 ,可大大改善原子光谱分析系统的性能。The mechanism,operating conditions and routine maintenance of a novel desolvation system for atomic spectrometry, Nafion dryer, are described.Compared with other desolvation systems or desiccants,Nafion system has higher desolvation efficiency,better selectivity and stronger corrosion resistivity,and it is more simple for routine maintenance and cleaning.There are no memory effect and peak broadening in the system.The application of the system can improve the analytical performance of atomic spectrometers considerably.

关 键 词：去溶机理 维护 Nafion干燥器 膜去溶 去溶系统 等离子体 原子光谱分析 

分 类 号：O657.3[理学—分析化学]