萘二甲酰亚氨基席夫碱类液晶材料的三阶非线性光学性能研究  

Third-Order Optical Nonlinearity in Schiff-Base Liquid Crystal with Naphthalimide

作　　者：牛瑞民[1] 朱小蓉[1] 孙真荣[1] 张迎超[2] 苏建华[2] 田禾[2] 

机构地区：[1]华东师范大学物理系光谱学与波谱学教育部重点实验室,上海200062 [2]华东理工大学精细化学学院,上海200237

出　　处：《光学学报》2003年第1期18-21,共4页Acta Optica Sinica

基　　金：上海市科技启明星项目;教育部重点项目资助课题

摘　　要：采用波长λ =5 32nm和脉宽τ0 =35 ps的Nd∶YAG锁模脉冲激光 ,运用双光束前向简并四波混频(DFWM )的方法 ,测量了两种萘二甲酰亚氨基席夫碱类液晶材料的三阶非线性效应 ,测得其离共振三阶非线性系数 χ(3 ) 及响应时间 ,计算了它们的超极化率γ(3 ) 和非线性折射率n2 ,同时探讨了它们的非线性形成机制。By using Nd∶YAG mode locked pulse laser (λ=532 nm, τ 0=35 ps), the third order nonlinear optical susceptibility χ (3) , and time response properties of liquid crystals containing Schiff base and Naphthalimide are measured with forward degenerate four wave mixing (DFWM). The corresponding nonlinear refractive index coefficient n 2, second hyperpolarizability γ (3) are calculated. The mechanism for their nonlinear effect is discussed.

关 键 词：非线性光学 三阶非线性 液晶材料 席夫碱类 萘二甲酰亚氨基 

分 类 号：O753.2[理学—晶体学]