国产高纯铝箔的隧道腐蚀——Ⅲ.扩面处理技术的探索  

作　　者：卢江[1] 曹婉真[1] 徐友龙[1] 

机构地区：[1]西安交通大学

出　　处：《电子元件与材料》1992年第3期26-31,共6页Electronic Components And Materials

摘　　要：对现有国产高纯铝箔(丹东LG5Y)的扩面处理技术进行了多方面的探索,力求解决国产箔在电蚀处理过程中低发孔率及初始引发出的蚀孔分布不均匀的难题。给出了LG5Y箔在盐酸、盐酸+硫酸,盐酸+铬酸酐,盐酸+硫酸+铬酸酐,盐酸+硫酸+铬酸酐+氟化铵溶液中进行电化学处理后表面积的扩大情况。讨论了高立方织构含量的铝箔在这些溶液中蚀孔的引发和隧道的生长机理、表面积大幅度扩大的原因以及存在的问题,为把电化学转化膜成功地用于高立方织构含量铝箔的隧道型扩面处理奠定了实验基础。

关 键 词：铝箔 隧道腐蚀 铝电解电容器 

分 类 号：TM535.1[电气工程—电器]