一些有机硅立体异构体的氧化亚氮负化学电离质谱研究  

Negative Chemical Ionization Mass Spectra of Some Organosilicon Stereoisomers Using Nitrous Oxide as a Reagent Gas

作　　者：詹东亮 朱育芬[1] 唐大志[2] 杨炜[2] 唐士雄[3] 

机构地区：[1]中国科学院广州化学研究所,广州510650 [2]天津理化分析中心 [3]南开大学

出　　处：《分析化学》1992年第2期144-148,共5页Chinese Journal of Analytical Chemistry

摘　　要：本文以氧化亚氮(N_2O)为反应气首次研究了一些有机硅立体异构体的负化学电离(NCI)质谱。反应离子(Reactant ions)和样品分子中硅及活性氢原子作用分别产生加合离子[M+O]^-和准分子离子[M-H]^-,它们的碎裂过程显示一定的立体专一性,为这些立体异构体的辨析提供了判据。The title method was studied. The silicon and active hydrogen-atoms in sample molecules react with reactant ions to form adduct ions[M+O]^-. and quasimolecular ions [M-H]^-, respectively. Their fragmentation processes show stereospecificity to some extent, which Can give valuable information on the differentiation of above isomers.

关 键 词：有机硅 异构体辨析 化学电离质谱 

分 类 号：O627.41[理学—有机化学]