单个DNA分子光敏断裂过程的观察  

作　　者：李宾 汪颖 胡钧 吴世英 黄一波 李民乾[1] 

机构地区：[1]中国科学院上海原子核研究所单分子探测与单分子操纵实验室.上海201800.

出　　处：《科学通报》2003年第4期345-347,共3页Chinese Science Bulletin

基　　金：中国科学院知识创新工程重大项目(批准号:KJCX-06;KSCXI-06);中国科学院特别支持项目(批准 号:STZ-00-07);中国科学院项目配套基金资助项目;国家自然科学基金"九五"重大项目(批准号:19890385);上海市优秀学科带头人资助计划项目(批准号:00XD14029).

摘　　要：利用荧光显微镜和冷却CCD记录单个拉直的λDNA分子在光照下逐渐断裂的动态过程.λDNA兮子经高效的YOYO-1染料染色后,用分子梳技术拉直,并使DNA链的若干局部点固定在APS修饰的玻片上,在蓝光的照射下,观察λDNA的断裂和断裂后的弹性回缩过程,结果表明,DNA构象的变化以及水分子的用用,有可能使DNA在光照的作用下更加容易断裂,此技术将在研究DNA弹性、DNA与染料相互怍用以及肿瘤治疗中起一定的作用.

关 键 词：DNA分子 光敏断裂过程 YOYO-1染料染色 原子力显微镜 荧光显微镜 衬底修饰 分子梳技术 弹性回缩 

分 类 号：Q523[生物学—生物化学]