珍珠岩抛光磨料制备技术研究  

RESEARCH ON WET PREPARATION TECHNIQUE OF PERLITE FINISHING ABRASIVE GRITS

作　　者：刘新海[1] 沈上越[1] 李一波[2] 杨友生[2] 李珍[1] 杨欣剑[2] 

机构地区：[1]中国地质大学研究生院,武汉430074 [2]中国地质科学院郑州矿产综合利用研究所,郑州450006

出　　处：《金刚石与磨料磨具工程》2003年第2期30-32,共3页Diamond & Abrasives Engineering

基　　金：国家科技攻关项目 (960 4 4 1 0 34);河南省重大科技公关项目 (971 1 4 0 2 0 1 ) :上天梯多种非金属矿综合利用研究

摘　　要：本文提出一种湿法制备技术利用珍珠岩尾矿制备珍珠岩抛光磨料。与传统干法工艺相比 ,珍珠岩抛光磨料产品产率从 3 0 %提高到 70 %以上 ,颗粒粒度百分之百小于 15 0 μm ,而 0 -4 4μm粒级含量不到 10 %。粒度分布更加合理 ,完全满足玻壳行业及相关行业的要求。湿法制备珍珠岩抛光磨料是珍珠岩加工业充分合理利用珍珠岩尾矿的十分有效的利用途径。A wet preparation method was suggested to produce perlite abrasive grits from perlite tailings. The ouput rate of the abrasive grits by the new method increased to 75% compared to 30% by traditional dry process. The grit size was absolutely smaller than 150μm and the 0-44μm grade presented less than 10%, thus making the grit size distribution more reasonable and could meet the requirements of TV glass shell polising.

关 键 词：珍珠岩 抛光磨料 制备 粒度 产率 

分 类 号：TG739[金属学及工艺—刀具与模具]