核孔膜的非常规蚀刻法  

作　　者：彭良强[1] 巨新 王世成 冼鼎昌 李涛 张宝亭 

机构地区：[1]中国科学院高能物理研究所，北京100039 [2]中国原子能研究院，北京102413

出　　处：《Beijing Synchrotron Radiation Facility》2001年第2期104-108, ,共5页北京同步辐射装置（英文版）

摘　　要：不对称蚀刻法的分桥表明，在灵敏度不变时可以得到小孔径核孔膜。实验显示，由于孔径不均匀现象的制约，核孔膜的孔径可减小到1／2。温度梯度蚀刻法的分桥表明，导通时间的减小与膜两面的温度差成正比，在实际条件下孔径减小到1／5。模拟计算表明，采用该方法可得到控状孔核孔膜，但蚀刻过程很难控制。

关 键 词：核孔膜 非常规蚀刻法 不对称蚀刻法 温度梯度蚀刻法 模拟计算 

分 类 号：O571.33[理学—粒子物理与原子核物理] TN305.7[理学—物理]