纳米孔径核孔膜的制备研究  

作　　者：彭良强 王世成[2] 巨新[3] P.Yu.Apel 吉田胜[3] 前川康成[3] 

机构地区：[1]FlerovLaboratoryofNuclearReactions,JointInstituteforNuclearResearch,141980Dubna,RussianFederation [2]日本原子力研究所高崎研究所群马县高崎市岩鼻町1233，日本370－1292 [3]中国科学院高能物理研究所，北京100039

出　　处：《Beijing Synchrotron Radiation Facility》2001年第2期109-114,共6页北京同步辐射装置（英文版）

摘　　要：高能硫、氪、氙离子轰击聚酯(PET)和聚碳酸酯(PC)膜后，对样品进行陈化和紫外线照射敏化．用电导法着重研究蚀刻条件对样品的归一亿径迹蚀刻速率(灵敏度)的影响，结果表明优化条件下灵敏度较通用条件下提高约2倍，PET的灵敏度可达1000，PC的灵敏度可达2000，可以用于制备纳米孔径核孔膜．核孔膜中填充的铜纳米线的电镜照片显示出纳米线最小直径为20nm．用电导法计算纳米孔的孔径，该值与纳米线直径的电镜测量值在孔径大于30nm时符合良好．

关 键 词：纳米孔径 核孔膜 制备 电导法 等离子蚀刻 灵敏度 高能重离子 

分 类 号：O571.33[理学—粒子物理与原子核物理] TB383[理学—物理]