磁场对麦瓦(MEVVA)离子源电荷密度分布的影响  

Influence of Magnetic Field on the Charge Distribution in MEVVA Ion Source

作　　者：刘谦祥[1] 郭希铭[1] 赵杰[1] 

机构地区：[1]天津师范大学物理与电子信息学院,天津300074

出　　处：《天津师范大学学报（自然科学版）》2003年第1期59-62,共4页Journal of Tianjin Normal University：Natural Science Edition

基　　金：天津市自然科学基金资助项目(023613611)

摘　　要：为解决麦瓦(MEVVA)离子源束流的径向分布均匀性问题,采取了加入会切磁场的方法.会切磁场的安放位置不同得到束流分布均匀性的程度不同.另外,如安放一纵向磁场对分布的均匀性也有改善,但不如在合适位置安放会切磁场的效果好.In order to improve the charge distribution for MEVVA ion source, a radial magnetic field was introduced. The distribution of ion beam varies with the position and the intensity of the magnetic field. In addition, a magnetic field in anxious direction was also introduced, however, the effect of this field is less than the formal one.

关 键 词：MEVVA源 电荷密度 会切磁场 

分 类 号：O532.11[理学—等离子体物理]