磁过滤阴极真空弧沉积装置研究中的等效电路方法  

Equivalent Circuit of Magnetically Filtered Vacuum Arc Plasma Deposition System

作　　者：王广甫[1] 张荟星[2] 

机构地区：[1]北京师范大学分析测试中心 [2]北京师范大学低能核物理研究所射线束技术与材料改性教育部重点实验室,北京100875

出　　处：《真空科学与技术》2003年第1期16-18,共3页Vacuum Science and Technology

基　　金：国家"8 63"计划资助 (863 715 0 0 8 0 0 40)

摘　　要：提出了模拟磁过滤阴极真空弧放电等离子体沉积装置阴极弧放电过程的等效电路 ,并用此电路定性研究了各参数对弧放电的影响 。Magnetically filtered vacuum arc discharge plasma deposition system was simulated by equivalent circuit method. Influence of various parameters, including the bias voltage, focusing magnetic field and magnetic field distribution inside the filter, on the arc discharge was studied. The simulated results agree well with the experimental data.

关 键 词：磁过滤阴极 真空弧放电等离子体沉积装置 阴极弧放电过程 等效电路 薄膜 制备 

分 类 号：TB43[一般工业技术] TB79