质子和4He离子激发金和铋产生的LX射线的相对强度  

Au and Bi L-X-ray relative intensities induced by protons and ~4He-ions

作　　者：徐君权[1] 许浔江[1] 

机构地区：[1]中国科学院上海原子核研究所,上海201800

出　　处：《核技术》1992年第2期92-97,共6页Nuclear Techniques

基　　金：国家自然科学基金

摘　　要：利用ECPSSR电离理论和新获得的L次亮层荧光产额等,计算了质子和~4He离子激发Au和Bi所产生的LX射线相对强度。质子能量为0.18—10MeV,~4He离子能量为1.0—4.0MeV。计算结果和报道的实验测量符合得很好。没有发现L次壳层偶合效应。Using the ECPSSR ionization theory and L-subshell fluorescence yields, the relative intensities of LX-rays induced by 0.18-10MeV protons impact on gold and 1.0-4.0 MeV 4He-ions impact on bismuth have been calculated. The results are in good agreement with experimental measurements reported. The L-subshell coupling effects are not found.

关 键 词：PWBA理论 电离截面 LX射线 L次壳层 

分 类 号：O571.4[理学—粒子物理与原子核物理]