ICP-AES测定电镀高纯铜中微量磷  

Determination of Micro Phosphorus in Electroplate Copper by ICP-AES

作　　者：杨德君[1] 陆雅琴[1] 贾素娟 

机构地区：[1]辽宁师范大学实验中心,辽宁省大连市黄河路850号116029 [2]辽宁省北票市重点高中,辽宁省北票市122100

出　　处：《光谱实验室》2003年第3期367-369,共3页Chinese Journal of Spectroscopy Laboratory

摘　　要：用浓 HNO3溶解高纯铜试样 ,电感耦合等离子体发射光谱 ( ICP- AES)测定其中微量磷 ,并对试样处理、测试方法、提高灵敏度等条件进行了优化实验。结果表明 ,方法回收率为 99.0 7%— 10 2 .0 % ,RSD( n=6)为 0 .2 2 %— 0 .2 5 %。The micro amounts of phosphorus in electroplate copper dissolved with HNO 3 were determined by ICP-AES under the optimized experimental conditions.The recovery of this method is in the range of 99.07%-102.0%,and the RSD(n=6) is in the range of 0.22%-0.25%.

关 键 词：ICP-AES 测定 电镀 高纯铜 微量分析 磷 电感耦合等离子体-发射光谱 

分 类 号：TQ153.14[化学工程—电化学工业]