点阴极下金属电沉积过程枝晶二维生长的计算机模拟  

The Computer Simulation of Two-dimension Dendritic Growth on Metal Electrodepositing Process which Use Point Electrode as Cathode

作　　者：谢刚[1] 张郑[2] 陈书荣[1] 张雄飞[1] 

机构地区：[1]昆明理工大学材料与冶金工程学院,昆明650093 [2]西安建筑科技大学冶金工程学院,西安710055

出　　处：《科学技术与工程》2003年第4期343-346,共4页Science Technology and Engineering

基　　金：国家自然科学基金(59774029)

摘　　要：将分形几何与电化学相结合,通过改进的DLA模型,使用计算机对金属在以点电极作为阴极进行电沉积时生成沉积产物的形貌进行了模拟,对不同离子沉积速度、沉积过程中不同阶段以及使用不同形状点阴极时生成沉积产物的形貌进行了比较,并从分形维数的角度对模拟结果之间存在的差异进行了比较、说明。Combination of fractal and electrodeposition, by means of modify the DLA model, realized the simulation aboutthe growth process of electrodeposition which used point electrode as cathode, the simulation result on difference migrationrate,different stage of electrodeposition and different shape of kernel and so on, by the way of fractal dimension are comparedand analyzed.

关 键 词：点阴极 金属电沉积 枝晶生长 计算机模拟 分形几何 电化学 沉积速度 沉积过程 

分 类 号：TQ153[化学工程—电化学工业] O781[理学—晶体学]