准分子XeOH的形成反应研究  

Research on the Forming Reactions of XeOH Excimer

作　　者：马树森[1] 熊旭明[1] 姚永帮 王广昌 秦玉英 张兆平 

机构地区：[1]中国科学院安徽光学精密机械研究所,合肥230031

出　　处：《量子电子学》1992年第3期275-278,共4页

基　　金：国家自然科学基金

摘　　要：本文研究了不同总气压,不同缓冲气体及不同OH施主对准分子XeOH发光的影响,分析了XeOH的形成反应,认为Xe的高激发态在XeOH的生成中起主要作用。This paper reports the emission intensity dependences of XeOH on total gaspressure, buffer gases and OH donors. The forming reactions of XeOH are di-scussed and the highly excited Xe was thought to play a dominant role in theforming reactions of XeOH excimer.

关 键 词：XeOH 反应 激光材料 激光介质 

分 类 号：TN244[电子电信—物理电子学]