偏心孔阑离轴照明EUVL微缩投影物镜的设计及模拟装调  

Design and simulated alignment of EUVL optics used with eccentric aperture and off-axis illumination

作　　者：林强[1] 金春水[1] 向鹏[1] 马月英[1] 裴舒[1] 曹健林[1] 

机构地区：[1]中科院长春光学精密机械与物理研究所应用光学国家重点实验室,吉林长春130022

出　　处：《光学仪器》2003年第4期39-43,共5页Optical Instruments

基　　金：国家自然科学基金重点项目 ( 6993 80 2 0 );中国科学院创新基金项目

摘　　要：针对极紫外投影光刻 ( Extreme Ultraviolet Lithography,简称 EUVL)工作波长短的特点及由此带来的一些问题 ,对 EUVL微缩投影物镜的结构参数进行分析选择 ,设计了离轴照明方式的 Schwarzschild微缩投影成像物镜。利用基于奇异值分解的牛顿迭代法对敏感矩阵进行分解 ,求出相应失调量的大小 。Some problems were brought from the short wavelength of EUVL.With the analysis and selection of the configuration of EUVL reduction system,the Schwarzschild optics was designed.Then a Newton’s method based on the singular value decomposition(SVD)was used to calculate the value of misalignment.We expect that the method can be used for rigorous alignment.

关 键 词：极紫外投影光刻 EUVL 投影物镜 离轴照明 牛顿迭代法 敏感矩阵 计算机辅助装调 集成电路 

分 类 号：O435[机械工程—光学工程] TN405[理学—光学]