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作 者:杨少鹏[1] 傅广生[1] 曹宁[1] 孟涛[1] 董国义[1] 李晓苇[1]
机构地区:[1]河北大学物理科学与技术学院,保定071002
出 处:《感光科学与光化学》2003年第5期321-327,共7页Photographic Science and Photochemistry
基 金:国家自然科学基金项目(10274017);教育部科学技术研究重点项目(01011);河北省博士基金项目(01547012D);河北省高校博士基金及河北大学博士基金项目
摘 要:本工作利用微波吸收薄膜介电谱测量技术,测量了菁染料光谱增感后的AgBr晶体乳剂在脉冲激光曝光后产生的光电子衰减时间特性,分析了不同类型的染料及其增感条件对材料光电子时间特性的影响关系.通过比较增感后的T 颗粒乳剂和立方体乳剂的光电子衰减特性,实验验证了吸附在T 颗粒(111)晶面上的染料比吸附在立方体(100)晶面上的染料更有效、更有助于形成潜影的论据.Microwave Absorption Technique(MWA)is used to study the influence of spectral sensitization on electron decay characteristics in silver halide emulsion.For cubic and tabular grains AgBr crystals,the corresponding relation between sensitization condition and photoelectron decay time is discussed.The best dye sensitization parameter including dye type and dye concentration,which result in high photographic efficiency,is obtained.There is a comparison between sensitized cubic grains and tabular grains emulsion crystals in photoelectrons characteristic.For dyesensitized tabular grains AgBr emulsion,the free photoelectron lifetime is in principle smaller than for cubes.The photographic efficiency of former is higher than the latter.
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