一种面片约束的变形技术  

Patch Constrained Deformation Technique

作　　者：张慧[1] 孙家广[1] 

机构地区：[1]清华大学软件学院,北京100084

出　　处：《计算机辅助设计与图形学学报》2003年第4期389-392,401,共5页Journal of Computer-Aided Design & Computer Graphics

基　　金：国家自然科学基金 ( 6 990 2 0 0 4)资助

摘　　要：如何方便地设计和编辑修改实体或曲面模型 ,一直是CAGD和CG中的一个重要问题 .提出一种基于面片(patches)约束的变形技术 用一个参考面片定义要变形的物体的某些局部特征 ,另一个面片用来定义参考面片将会变形到的位置 通过对变形物体上的各点分别进行比例、旋转和平移操作 ,得到变形结果 .A reference patch is demarcated to define the local feature of object to be deformed, while another patch predicts the shape that the reference patch will move to. After the object is bound to the patches, three transformations: scaling, rotation and translation, are performed to all the points needed to be deformed. With our algorithm, the deformation looks natural. Furthermore, additional scaling and offsetting factors can be used to extend deformation effects.

关 键 词：面片约束 变形技术 CAGD 几何造型 复杂形体造型 计算机辅助设计 

分 类 号：TP391.72[自动化与计算机技术—计算机应用技术]