二步含氯氧化处理技术报告：—一种新的与器件工艺相结合的吸除技术  

作　　者：张建宇 陈康民 

出　　处：《上海半导体》1992年第1期30-34,48,共6页

关 键 词：VLSI ULSI 工艺 氯 氧化处理 吸除 

分 类 号：TN470.5[电子电信—微电子学与固体电子学]