LaCl_3和Fe_2(SO_4)_3对化学镀Ni-W-P的影响  

Effects of LaCl_3 and Fe_2(SO_4)_3 on Electroless Ni-W-P Plating

作　　者：胡光辉[1] 吴辉煌[1] 杨防祖[1] 郑一雄[2] 王森林[2] 

机构地区：[1]厦门大学化学化工学院,固体表面物理化学国家重点实验室,厦门361005 [2]华侨大学材料学院,泉州

出　　处：《应用化学》2003年第11期1025-1029,共5页Chinese Journal of Applied Chemistry

基　　金：国家自然科学基金资助项目 ( 2 0 0 73 0 3 5 )

摘　　要：研究了添加剂LaCl3 和Fe2 (SO4) 3 对化学镀Ni W P沉积速度、镀层组成结构和表面形貌的影响。结果表明 ,三氯化镧质量浓度为 1～ 1 0mg/L时化学镀Ni W P沉积速度提高 ,而大于 1 0mg/L时沉积速度随浓度增加而降低 ,使Ni W P镀层中的W含量降低 ,镀层颗粒尺寸减小。而硫酸铁提高沉积速度、降低镀层中的P含量 ,但对镀层结构和颗粒尺寸影响不大。能量分散谱 (EDS)分析镀层成分的结果表明 ,稀土镧是非消耗性的添加剂 ,而硫酸铁是消耗性的添加剂 ,后者由于在基体表面共沉积 ,形成化学镀的催化活性中心 ,从而促进了化学镀过程。The influences of additives LaCl 3 and Fe 2(SO 4) 3 in plating solution for electroless Ni-W-P deposition have been investigated as function of deposition rate, composition, structure and morphology of alloy formed. The results show that 1～10 mg/L LaCl 3 could accelerate deposition rate, whereas 20～100 mg/L LaCl 3 decrease deposition rate, reduce W content and diminish the grain size. Being different from LaCl 3, Fe 2(SO 4) 3 could increase deposition rate , reduce P content, and hardly affect the grain size. Energy Diffusion Specta (EDS) indicate LaCl 3 is not a consumptive additive, but Fe 2(SO 4) 3 is. Fe 2(SO 4) 3 raises deposition rate by forming catalytic centres, being deposited on the substrate surface.

关 键 词：三氯化镧 硫酸铁 化学镀 Ni-W-P非晶沉积 

分 类 号：O646[理学—物理化学]