电沉积纳米镀锌层的机理研究  

Electrochemical Behavior and Deposited Mechanism of Nanolaminated Growth of Galvanizing

作　　者：曹莹[1] 姚景元[1] 丁桂甫[1] 杨春生[1] 

机构地区：[1]上海交通大学微纳米科学技术研究院,上海200030

出　　处：《表面技术》2003年第6期20-21,24,共3页Surface Technology

基　　金：上海市科学技术发展基金纳米专项资助项目(0159nm053)

摘　　要：　对电镀锌进行纳米改性研究,得到层状纳米镀锌层。采用场发射电镜(FEG-TEM)观察镀锌层结晶的形态,X衍射分析镀锌层晶粒的尺寸,恒电位法和电化学交流阻抗方法研究了纳米镀锌层的电沉积机理。Nanolaminated growth of Galvanizing is investigated. The crystalline in zinc coatings is investigated by using FEG-TEM (Field Emission Gun Transmission Microscope) and XRD (X-Ray Diffraction) patterns, and the electrodeposited mechanism is studied by Amperometric i-t Curve and Electrochemical impedance spectrum (EIS).

关 键 词：电镀 镀锌层 纳米层 纳米改性 电沉积 交流阻抗 场发射电镜 汽车 

分 类 号：TQ153.15[化学工程—电化学工业] U465[一般工业技术—材料科学与工程]