束流聚焦影响因素的束矩阵法计算分析  

Calculating Analysis of Effecting Factors on Beamfocus Using Beam Matric Method

作　　者：李献文[1] 王文斗[1] 李平[1] 谢宇彤[1] 代志勇[1] 章林文[1] 

机构地区：[1]中国工程物理研究院流体物理研究所,四川绵阳621900

出　　处：《信息与电子工程》2003年第4期284-287,共4页information and electronic engineering

基　　金：国防科技基础研究基金资助课题

摘　　要：利用束矩阵的数值计算方法,研究了束流在聚焦系统中的传输行为和系统磁场位形的关系,重点探讨了入射束流不同初始参数对打靶聚焦的影响。计算结果表明,对于不同初始参数(尤其是在相空间的不同初始状态)的束流,要分别聚焦在靶上需要选择不同的磁场位形;主磁透镜的场强及其位置是调试束流聚焦的关键因素。同时还计算给出了几种能使束流聚焦焦斑半径在1.5mm以下的磁场位形。The relation between magnetic profile and beam current transport behaves in the focusing system has been computed by beam matrix method.The influences of beam initial parameters on spot size have been studied.Through caculations several magnetic profiles with focusing beam at spot size lower than 3mm are put forward.

关 键 词：束流聚焦 束矩阵法 数值计算 聚焦系统 打靶聚焦 物理模型 

分 类 号：TL501[核科学技术—核技术及应用]