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作 者:杨少鹏[1] 曹宁[1] 傅广生[1] 董国义[1] 李晓苇[1] 韩理[1]
机构地区:[1]河北大学物理科学与技术学院,河北保定071002
出 处:《光谱学与光谱分析》2003年第6期1046-1048,共3页Spectroscopy and Spectral Analysis
基 金:教育部科学技术研究重点项目(01011);河北省高校博士基金
摘 要:本工作利用高时间分辨的微波吸收薄膜介电谱测量技术,测量了菁染料光谱增感后的AgBr晶体在35ps超短脉冲激光曝光后产生的自由光电子和浅俘获光电子随时间衰减的光电子衰减时间分辨谱,分析了不同的染料增感条件对材料光电子时间特性的影响关系,实验验证了吸附在T-颗粒(111)晶面上的染料比吸附在立方体(100)晶面上的染料更有效、更有助于形成潜影的论据。Microwave absorption and film dielectric spectrum detection technology, which has a high time resolution, was used to measure the photoelectron decay time-resolved spectrum of free electrons and shallow-trapped electrons generated in dye-sensitized AgBr crystals illuminated by 35 ps super short pulse laser in this paper. The influence of spectrum-sensitization on the photoelectron decay temporal characteristics of AgBr materials was analyzed. For dye-sensitized tabular (111) grain AgBr emulsion, the free photoelectron lifetime is in principle smaller than that for cubes (100). The photographic efficiency of the former is higher than the latter.
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