离子氮碳共渗中氮对化合物层的影响  

Influence of Nitrogen on Compound Layer in Ion Nitrocaburizing

作　　者：孙定国[1] 韩莉[2] 赵程[1] 

机构地区：[1]青岛科技大学表面研究所,山东青岛266042 [2]海军航空工程学院青岛分院机械基础教研室,山东青岛266042

出　　处：《中国表面工程》2003年第6期24-26,共3页China Surface Engineering

基　　金：青岛市科委重点科研项目(10-110-100-003)

摘　　要：研究了在离子氮碳共渗过程中氮对化合物层厚度的影响,同时对化合物层的微观组织结构和显微硬度进行了分析。结果表明:在离子氮碳共渗过程中,气氛中低氮势不利于ε相的生成,且渗层的显微硬度较低;高氮势有利于ε相的生成,同时提高了渗层的显微硬度;当氮势超过60 %后对化合物层厚度影响不大。The influence of nitrogen on the thickness of compound layer in plasma nitrocarburizing process was investigated. The microstucture and microhardness of compound layer were analyzed. The experiment results showed that high nitrogen potential in atmosphere can increase the compound layer thickness while low nitrogen potential in atmosphere will decrease the compound layer thickness and hardness. But excessive nitrogen has no influence on the thickness of compound layer.

关 键 词：离子氮碳共渗 氮势 化合物层 厚度 

分 类 号：TG156.82[金属学及工艺—热处理]